GC-MS イオン源洗浄

大学は公式には今日が仕事納めで明日から年末年始休業に入ります．研究室では午前中に学生さんたちが大掃除（というよりも中掃除）をしました．

私は大掃除は大掃除でも GC-MS のイオン源の大掃除を一日がかりでやりました．先日，フィラメントが切れたという話を書きましたが，昨日，日本電子データムから新しいフィラメントが届きました（日本電子データムの納品はいつも早いので助かります）．
フィラメントを付け替えるだけではまたすぐに切れてしまうかもしれないので，イオン源を分解して洗浄することにしました．

GC-MS のイオン源は部品の点数が結構多く，分解すると下の写真のようになります．

これらの部品を紙ヤスリや綿棒・スコッチブライトに付けたアルミナ（研磨剤）で地道に磨いて汚れを落として，超音波洗浄しました．細かい部品や入り組んでいて磨きにくい部品が多いので苦労します．

ものを磨くという作業は続けていると結構没頭してしまいます．汚れてしまった鏡面仕上げの部品を丹念にアルミナで磨いてピカピカにできたときには結構達成感があります．一方，入り組んだ構造の部品でどう磨いても汚れをうまく落とせないときは非常にイライラします．

洗浄後，組み立て直したのですが，いつやっても小さいワッシャーとか芋ねじとかを必ず何個かなくしてしまいます．今回も何個かなくしました．まあなくても何とか組み立てられるので一時的にそのまま組み立ててしまいました．
先ほど GC-MS にセットして，真空引きを開始し，イオン化室の温度を上げておきました．一晩置いて真空度を十分にあげてから，明日ちゃんと使えるかチェックする予定です．

ところで，このブログのアクセス数が急に増えて一日50件ぐらいあるのですが，いったい何が起こったのでしょう．アクセス解析はしていないので，今ひとつ原因がよく分からず，ちょっと不気味です．